Установка магнетронного напыления

PVD Вакуумное напыление - это процесс, который задействует принцип фазового перехода для осаждения тонких пленок без участия химических реакций. Испарение материала из твердой фазы обеспечивается источником.Вакуумное напыление возможно только в условиях высокого вакуума. 

Вследствие того, что химических реакций в процессе напыления не происходит, метод вакуумного напыления не зависит от типа материала или сплава. Однако вакуумное напыление может послужить отправной точкой (триггером) для химических реакций, например, для получения оксидных пленок в камеру может производиться напуск кислорода.

Подложка и источник располагаются внутри вакуумной камеры. Испарение материала источника может быть обеспечено различными методами, такими как нагрев, воздействие электронного пучка, лазерного луча или электромагнитного поля. Если рассмотреть термовакуумное испарение в качестве примера, частицы материала, испаряемые источником, осаждаются на подложку. Как только пары материала достигают поверхности подложки, они осаждаются на ней и формируют тонкую пленку.