設備產品
串集多腔鍍膜設備
多腔體鍍膜系統是一組真空腔系統,這些真空腔系統通過位於系統中心的傳輸腔相互連接。從基材的清潔、鍍膜與封裝的所有過程都在不破壞真空的環境下連續進行。所有過程使外部環境影響最小化,以防止在沉積的過程中基板表面氧化,並為元件製造提供了最大效率。
退火爐
退火爐是用於製造半導體元件的製程方法。該製程包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理旨在達到不同的效果。可以加熱晶片以激活摻雜劑,使沉積的膜緻密化,並改變生長的膜的狀態。暴露在高溫下可以修復損壞。該過程稱為退火。
Photolithography
Products for safe storage and handling of reticles,as well as mask aligners and uv meters.