Установка сверхвысоковакуумного электроннолучевого напыления (UHV E-beam) характеризуется значениями давления ниже, чем 10^-8 - 10^-12 Торр, и обычно используется для проведения химических, физических и инженерных экспериментов.
Сверхвысоковакуумная среда очень важна для научных исследований, поскольку такие опыты зачастую требуют поддержания поверхностей в полностью свободном от любых загрязнений состоянии на протяжении всего процесса, а также использование низкоэнергетических электронных и ионных экспериментальных методов без чрезмерных помех от рассеивания от газовой фазы. Установка сверхвысоковакуумного электроннолучевого напыления производства Syskey позволяет получать высококачественные тонкие пленки.

 

 

 

 

Поворотный механизм напыления подложки для условий сверхвысокого вакуума и высокотемпературного нагрева, использует керамические вращательные элементы, а также замкнутое водяное охлаждение для защиты механизма и обеспечения его надёжной работы на долгий срок.

 

 

 

---

 

Область применения	Вакуумная камера
Материалы для оптоэлектроники (LED/лазерные диоды). Устройства передачи. Полупроводниковые устройства.	Габаритные размеры зависят от размера подложки и конечного применения оборудования. Металлическое уплотнение камеры и нагрев стенок до 150 °С. Предельное давление в камере примерно 10-10 Торр.
Конфигурации и преимущества	Опции
Различный размер пластин диаметром до 200 мм. Отличная равномерность плёнок - менее ±3%. Мультикассетные вращающиеся источники (1/2/4/6 тиглей). Автоматическое управление скоростью осаждения. Возможность одновременной установки нескольких источников с последовательным включением или совместным напылением. Охлаждение подложкодержателя (жидким азотом до -70°С) или нагрев (до 800°С).	Интеграция со шлюзовой камерой, роботом-манипулятором для перемещения подложек, перчаточным боксом. Возможность совмещения с ионным источником, испарителем, электронной пушкой, плазменной очисткой или с ассистированием.