Плазменно-стимулированное химическое осаждение из газовой фазы (PECVD) - технология химического осаждения (CVD), использующая плазму для обеспечения дополнительной энергии для протекания реакции осаждения. PECVD - альтернатива для осаждения различных тонких пленок при более низких температурах, чем обычные методы CVD, без потерь в качестве.PECVD более широко применяется в полупроводниковой промышленности, чем прочие методы CVD. PECVD помогает получить тонкую пленку при низкой рабочей температуре (менее 350 °C) с равномерным покрытием различной формы, хорошим ступенчатостью, высокой плотностью.Установка производства Syskey контролирует подачу газа и в режиме реального времени записывает системные данные (давление, температуру подложки), что позволяет получать высококачественные тонкие пленки.

　　　　　　　　  PECVD и RIE　　　　　　　　　　　　　　　PECVD и PEALD

　　Мы также разрабатываем различные установки,
　　　　　　　но общие компоненты сни.