Термическое испарение – один из наиболее простых вариантов вакуумного напыления, используемый для нанесения материала. Материал (металл, органическое соединение...) в вакуумной среде помещается в резистивый источник тепла для последующего прямого испарения на подложку, где он обратно конденсируется в твёрдое состояние, образуя тонкую пленку. Термическое испарение обеспечивает более высокую скорость испарения, чем магнетронное напыление. Однако этот способ ограничен размером лодочки (или тигля), содержащей материал, а скоростью испарения тяжело управлять. Данный метод обычно используется для напыления электродов, однослойных материалов или совместного напыления различных материалов посредством одновременного управления несколькими резистивными источниками небольшого размера.